Nodé K는 강력한 각질 용해 및 각질 감소 활성 성분인 글리콜산과 살리실산의 시너지 생물학적 작용 덕분에 부착된 플라크를 제거하고 재발을 방지합니다. 강력한 완화제인 시어와 바셀린은 건조함을 줄이고 피부를 편안하게 회복시켜줍니다. Zanthoxylum 추출물의 진정 작용은 긁고 싶은 충동을 제한합니다. 특허받은 천연 DAF 복합체는 민감한 두피의 내성 한계점을 높입니다.
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